等离子溅射包括一系列已知技术，塑料镀膜，包括---等离子溅射和磁控溅射。一般概念来源于等离子体的产生。等离子体中的离子随后加速进入源材料，撞击出松散的高能源离子，然后溅射到目标光学元件上。尽管每种等离子溅射都有其的特性、优点和缺点，塑料镀膜公司，但由于它们有共同的操作概念，塑料镀膜工厂，因此这些技术被组合在一起。与本部分讨论的其他镀膜技术相比，这一组中的差异要小得多。
等离子溅射在蒸发沉积和离子束溅射之间实现了价格和性能的折中。离子束溅射 (ibs)在离子束溅射 (ibs) 过程中，利用高能电场加速离子束（图 5）。这一加速度会给离子提供---的动能 (~10-100 ev)。当源材料受到冲击时，源材料离子从目标“溅射”，并在与光学表面接触后形成致密膜。5 使用 ibs 镀膜而不是蒸发沉积的一个主要优点是能够更地监测和控制单个镀膜的生长速度、能量输入和氧化水平。
汽化相对温和的性质会生成松散或多孔的镀膜。这些松散的镀膜存在吸水问题，这会改变层的有效折射率并导致性能下降。蒸发沉积过程中不能控制蒸发，因此不能像使用离子束溅射等其他技术那样控制层厚度。不过，塑料镀膜加工厂，这些松散的镀膜的优点是它们相对来说没有压力。使用离子束辅助沉积（ibad 或 iad）可以增强蒸发镀膜，离子束直接作用于基片表面，增加源材料与表面的粘附能量，并生成更致密、更坚固的镀膜。
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