与蒸发沉积不同，原子层沉积 (ald) 的源材料不需要从固体中蒸发，而是直接以气体的形式提供。尽管使用了气体，但在真空室中仍然经常使用高温。在 ald 过程中，前体以非重叠脉冲的形式传递，每个脉冲都具有自限性。该过程的化学设计使得只有一个单一的层可以依附每个脉冲，光学玻璃镀膜加工厂商，表面的几何形状不是---因素。由此可对层厚度和设计实现非凡的控制。
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光学镀膜何原理？工艺是否合格呢？光学镀膜用于增强光学组件的透射、反射或偏振特性。例如，光学玻璃镀膜厂家，每个未镀膜玻璃器件表面将会有大约10%的入射光被反射。采用增透膜可将各表面的反射率降低到 0.1% 以下，光学玻璃镀膜logo定制，为了地提高或降低干涉，它们的光学厚度通常为应用中所使用的光的波长的 λ/4 光学厚度 (qwot) 或 λ/2 光学厚度 (hwot)。这些薄膜由高折射率和低折射率交替而成，从而诱发需要的干涉效应
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