光学薄膜在高真空度的镀膜腔中实现。常规镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃);而较---的技术,如离子辅助沉积(iad)可在室温下进行。i镀膜按其用途分类、特点及应用可分为:反射膜、增透膜/增透膜、滤光片、偏光膜/偏光膜、/匹配膜、扩散膜/片、增亮膜/棱镜片/聚光片、遮光膜/黑白胶等。相关衍生品种类有光学保护膜、窗膜等。通过在光学元件或独立基板上镀或涂一层或多层介质或金属薄膜或两者的结合,镜片光学镀膜,







不同镀膜技术的比较 (iad:离子辅助沉积,ibs:离子束溅射,ald:原子层沉积)蒸发沉积在蒸发沉积过程中,真空室中的源材料通过加热或电子束轰击进行蒸发。在蒸发过程中,蒸汽冷凝到光学表面并控制加热、真空压力、基片定位和旋转,使特定设计厚度的光学镀膜保持均匀。与本部分所述的其他技术相比,蒸发沉积可以容纳的镀膜机尺寸,而且通常更经济有效。

光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学零件表面镀膜后,光在膜层层上多次反射和透射,形成多光束干涉,镜片光学镀膜加工厂家,控制膜层的折射率和厚度,可以得到不同的强度分布,这是干涉镀膜的基本原理。

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