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光学镀膜理论要理解光学镀膜，就必须理解折射和反射的菲涅耳方程。折射是波从一种光学介质传播到另一种介质时传播方向的变化，它受斯涅尔折射定律决定：

(1)n1sinθ1=n2sinθ2n1sin?θ1=n2sin?θ2

其中，n1 是入射媒介的折射率，θ1 是入射光线的角度，n2 是折射/反 射介质的指数，θ2 是折射/反射光线的角度

溅射镀膜

 用高能粒子轰击固体外面时能使固体外面的粒子得到能量并逸出外面，堆积在基片上。溅射征象于1870年开始用于镀膜技巧，1930年今后因为进步了堆积速率而渐渐用于工业生产。罕用的二极溅射装备如图3[

 二极溅射示意图]。平日将欲堆积的资料制成板材--靶，牢固在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上，距靶几厘米。体系抽---真空后充入

 10～1帕的气体（平日为气），在阴极和阳极间加几千伏电压，南北极间即发生辉光放电。