光学薄膜在高真空度的镀膜腔中实现。常规镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃)；而较---的技术，横沥精密光学镀膜，如离子辅助沉积(iad)可在室温下进行。iad工艺不但生产比常规镀膜工艺具有---物理特性的薄膜，而且可以应用于塑料制成的基底。填充密度定义为薄膜固体部分的体积与薄膜的总体积(包括空隙和微孔)之比。对于光学薄膜，精密光学镀膜定制，填充密度通常为0.75～1.0，部分为0.85～0.95，很少达到1.0。小于l的填充密度使所蒸发材料的折射率低于其块料的折射率。
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光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程.在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求.常用的镀膜法有真空镀膜和化学镀膜.蒸发涂层通常是加热目标，以使表面组分以自由基或离子的形式蒸发，并通过成膜方法(散射岛结构 - 梯形结构 - 层状生长)沉积在基材的表面上，薄膜.
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