什么是镀膜？薄膜沉积（镀膜）是在基底材料上形成和沉积薄膜涂层的过程，在基片上沉积各种材料的薄膜是微纳加工的重要手段之一，薄膜具有许多不同的特性，精密真空镀膜加工厂，可用来改变或---基材性能的某些要素。例如，透明，---且耐刮擦；增加或减少电导率或信号传输等。薄膜沉积厚度范围从纳米级到微米级。常用的薄膜沉积工艺是物理气相沉积（pvd）与化学气相沉积（cvd）。
溅射镀膜
用高能粒子轰击固体外面时能使固体外面的粒子得到能量并逸出外面，堆积在基片上。溅射征象于1870年开始用于镀膜技巧，1930年今后因为进步了堆积速率而渐渐用于工业生产。罕用的二极溅射装备如图3[
二极溅射示意图]。平日将欲堆积的资料制成板材--靶，精密真空镀膜，牢固在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上，距靶几厘米。体系抽---真空后充入
10～1帕的气体（平日为气），在阴极和阳极间加几千伏电压，南北极间即发生辉光放电。
光学镀膜的特点是:表面光滑，膜层之间的界面是几何划分的，膜层在界面上的折射率可以发生跳跃，但在膜层是连续的，可以是透明介质，也可以是光学镀膜。用物理或化学方法涂覆单层或多层透明介质涂层，可在涂层表面涂覆，精密真空镀膜厂商，使下表面干涉相位变长或消除，使反射光增强或减弱，实现反射或反射。反光膜在现代被广泛使用。高反射镜是在玻璃基板上多层镀膜而成的多层膜系统。基于反射增强和反射增强原理的高反射率多层光学涂层广泛应用于激光器、激光陀螺和波分复用技术。
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