磁控溅射真空镀膜机导致不均的因素哪些？从事这方面工作的朋友其实还是比较的了解的，它主要可以分为以下几个因素就是：真空状态、磁场、亚气。
磁场是正交运作的，但你要将磁场强度做到一定均匀是不可能的，一般磁场强的地方，成膜厚度就大，相反就小，光学镀膜，所以会造成膜层厚度的不一致，不过在生产过程中，由于磁场的不均匀导致的膜层不均匀的情况却不是常见的，光学镀膜价格，为什么呢？
真空电镀大家应该都有一定的了解，它主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型，它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的---优点。
正是由于这些优点，所以真空电镀设备的应用非常广泛，如在abs料、abs+pc料、pc料，家用电器、化妆品包装等产品上都有着---的应用。同时因其工艺流程复杂、环境、设备要求高，单价比水电镀昂贵.
控制好系统张力，光学镀膜加工厂家，开启冷却系统，避免薄膜受热出现拉伸变形；---控制卷取速度、送铝速度及蒸发舟加热电流，以获得产品要求的铝层厚度；可预先在薄膜上涂布一定干量的底胶，光学镀膜，并充分干燥，再经真空镀铝，可提高铝层与薄膜的结合力。而后在铝膜上涂布一定量的保护树脂，防止铝层氧化变质。经此工艺形成的镀铝薄膜，耐摩擦，且不易变质。
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