(1)---镁：无色四方晶系粉末，纯度高，用其制备光学镀膜可提高透过率，办公用品渐变，不出崩点。
(2)二氧化硅：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。
(3)氧化锆：白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温性能，办公用品渐变供应商，化学性质稳定，纯度高，用其制备高氧化锆镀膜，不出崩点。
低辐射镀膜玻璃又称低辐射玻璃、“low-e”玻璃，是一种对波长范围4.5~25μm的远红外线有较高反射比的镀膜玻璃（高透型low-e）。低辐射镀膜玻璃还能够复合阳光操控功用，称为阳光操控低辐射玻璃（遮阳型low-e）。
低辐射镀膜玻璃（高透型low-e）适用于高纬寒区域，办公用品渐变定制，夏热冬冷区域宜选用阳光操控低辐射镀膜玻璃（遮阳型low-e）。
真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相堆积（pvd）技术和化学气相堆积（cvd）技术。
物理气相堆积技术是指在真空条件下，运用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，办公用品渐变，直接堆积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相堆积方法制得，它运用某种物理进程，如物质的热蒸腾，或遭到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控搬运进程。
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